申请光刻设备专利(光刻机的专利年限)

什么是微纳直写光刻

专利名称：利用微纳光纤进行直写光刻的方法

技术领域：

本发明属于微纳加工技术领域，尤其涉及一种利用微纳光纤进行直写光刻的方法。

背景技术：

现在科技的发展对微米级别尤其是亚微米级别的加工技术有迫切的需要，

比如集成电路的制造、微纳光子学器件的制造、高密度存储设备的制造、MEMS器件的制造。

目前的几种微纳加工技术有各自的优势，但是也都不可避免的存在不足之处。目前集成电路所用的光刻工艺虽然能加工出几十纳米的特征尺寸，但是它主要是靠不断的减小曝光光源的波长来提高分辨率，这对光源以及整个光学系统提出了极高的要求，这种技术需要极大的资金投入，所以主要掌握在少数的国际大公司手里。激光直写是一种简单灵活的加工方法，但是主要受衍射极限的限制，分辨率很难达到1微米以下。电子束直写虽然分辨率高但是需要购买昂贵的电子束曝光设备，电子束曝光的步骤相对比较繁琐，另外它的曝光范围也被限制在一个很小的区域内。

5nm光刻机哪里来的

5nm光刻机是由半导体行业领先企业ASML公司研发的，该公司是目前全球唯一一家能够生产5nm级别的光刻机的企业。ASML公司的5nm光刻机采用了极紫外光（EUV）技术，能够实现更精细的芯片制造，提高芯片性能和功耗比。该技术的研发和商用化需要大量资金和人力投入，ASML公司在此领域拥有多项专利和技术优势，成为全球芯片制造行业中的重要供应商。

荷兰为什么能造光刻机

回答如下：荷兰是一个科技创新和高端制造产业发展较为发达的国家，因此能够造光刻机。荷兰在科技、教育、研究等方面一直保持着高水平的投入和支持，拥有一批高素质的科研人员和技术工人，以及一批领先的科技企业，这些都为荷兰制造业的发展提供了坚实的支撑。

此外，荷兰也在政策、法律和管理等方面为企业提供了良好的支持和保障，这也为荷兰制造业的发展提供了良好的环境和条件。

因此，荷兰能够在高端制造领域中获得领先地位，制造出高质量的光刻机。

光刻机的专利年限

光刻机的专利年限是20年

专利权期限是指专利权的法定期满终止时间。从专利权授权公告之日起，如无因其它事由造成专利权终止的，则该专利权到专利权期限届满之日终止。根据专利法的规定，发明专利权的期限为二十年，实用新型专利权的期限为十年，外观设计专利权的期限为十五年，均自申请日起计算。